Из аморфного и микрокристаллического кремния можно выращивать очень тонкие пленки, толщина которых измеряется нанометрами. Две такие пленки, осажденные одна поверх другой на стекло, представляют собой фотогальванический элемент. Ожидается, что тонкопленочная технология позволит существенно снизить стоимость солнечных элементов.

Компания Sharp обещает к маю этого года наладить массовое производство на заводе Кацугари (Katsugari) новых тонкопленочных солнечных элементов с трехслойной структурой. В традиционных солнечных элементах используется двухслойная структура: аморфный кремний с микрокристаллическим. Sharp предложила новую технологию, которая предусматривает создание трехслойной структуры: два слоя аморфного и один микрокристаллического кремния.

Напомним, что применение многослойной структуры привело к созданию прототипа элемента с рекордно высоким КПД в 41%. В отличие от рекордсмена, разработка Sharp выдает эффективность всего 13%, но зато компания предлагает технологию, которая уже готова к массовому внедрению. По сравнению с традиционными двухслойными элементами, КПД повышено на 2%. Интересно отметить, что толщина прототипа 3-слойного элемента составляет всего 2 микрона.

Нельзя сказать, что разработка Sharp является абсолютно новой. Прототипы трехслойных солнечных элементов уже создавались в лабораториях исследователей. Но они требовали для массового производства совершенно нового оборудования. Достоинство же разработки Sharp в том, что для производства элементов по ее технологии можно использовать и конвейеры, предназначенные для создания двухслойных элементов. Таким образом, переход на более современные эффективные технологии может осуществляться быстро, безболезненно и относительно дешево. Можно надеяться, что и цены на новые солнечные элементы будут не сильно «кусаться».

3DNews